经营理念
公司理念：人才为本、技术优先，绿色发展
团队优势：公司团队主要人员均在过滤与分离领域从业10余年
工作态度：正直、专业、卓越
长期为客户提供优质的产品、解决方案和技术服务
CMP耗材主要种类
研磨液:研磨时添加的液体状物质,颗粒大小跟研磨后的刮伤等缺陷有关,颗粒越小越好。基本形式是由Si02抛光剂和一一个碱性
组分水溶液组成。Si02颗粒的大小1 -100nm ,浓度1.5%-50% ,碱性组成一般是KOH ,氨或有机胺, PH为9.5-11 ,颗粒越大对
晶片的损伤越大。
研磨垫:研磨时垫在晶片下面的片状物;
研磨垫整理器: 钻石盘状物,整理研磨液。
研磨液过滤要求:
微粒组成:金属颗粒、有机物等; .
过滤目的:
去除颗粒、有机物等杂物;
滤芯要求:
a.滤材抗氧化性、抗腐蚀性强;
b.滤材溶出物低、无介质脱落;
c.高流量，压差低，机械强度高;
d.去金属颗粒效果好,纳污量大,使用寿命长;
CMP耗材主要种类
研磨液:研磨时添加的液体状物质,颗粒大小跟研磨后的刮伤等缺陷有关,颗粒越小越好。基本形式是由Si02抛光剂和一一个碱性
组分水溶液组成。Si02颗粒的大小1 -100nm ,浓度1.5%-50% ,碱性组成一般是KOH ,氨或有机胺, PH为9.5-11 ,颗粒越大对
晶片的损伤越大。
研磨垫:研磨时垫在晶片下面的片状物;
研磨垫整理器: 钻石盘状物,整理研磨液。
研磨液过滤要求:
微粒组成:金属颗粒、有机物等; .
过滤目的:
去除颗粒、有机物等杂物;
滤芯要求:
a.滤材抗氧化性、抗腐蚀性强;
b.滤材溶出物低、无介质脱落;
c.高流量，压差低，机械强度高;
d.去金属颗粒效果好,纳污量大,使用寿命长;
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上海莲宇环保科技有限公司
联系人：赵明珠
手 机：17715166756
电 话：18796865602
邮 箱：lianyuhb@163.com
地 址：上海市金山区廊下镇景乐路228号7幢C570室
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